很多的多晶硅上面審查需要對超純水系統進行很多方面不了解這個問題，接下來艾柯純水處理設備生產廠家帶大家了解一下這個問題。

在多晶硅超純水設備中主要是用于多晶硅片的清洗清理，多晶硅片以及半導體設備的生產都需要用到須經嚴格清洗。微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質，包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴重影響少數載流子壽命和表面電導;堿金屬如鈉等，引起嚴重漏電,顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌、微生物、有機膠體纖維等，會導致各種缺陷。

純化水設備

超純水設備是指采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備，用于制取超純水的機器，超純水最初是美國科技界為了研制超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，這種水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，超純水無硬度，口感較甜，又常稱為去離子水。

通過以上的介紹是不是了解了多晶硅超純水設備有什么用了，多晶硅超純水設備系統穩定度強，具有精度高，體積小、重量輕、功耗低等特點。